紫外線洗浄改質

素材表面の洗浄・改質を行い密着性を向上させる

医療・薬品、フィルム、電子部品、樹脂成形、コネクター

  • 110300 紫外線洗浄改質
  • 紫外線による洗浄・改質は、有機系汚染物質を酸化させて揮発性の物質に変化させ除去するので、素材表面に熱ダメージや表面摩擦等のダメージを与えることなく有機系の汚染物だけを効率よく除去させます。

製品詳細


紫外線による洗浄・改質の特徴

◆大気中での処理が可能なドライプロセス
真空チャンバーやポンプなどの真空設備が不要で、大気中で処理が可能な環境にやさしい洗浄・改質技術です。

◆製品表面へのダメージが少ない
化学薬品などを使用するエッチング処理とは異なり、紫外線による洗浄・改質技術は製品表面を粗化せずに、表面の平坦を維持しながら洗浄・改質を行うことができます。

◆様々な形状や大きさの製品に対応可能 
低圧水銀ランプは、自由に加工が可能なため様々な形状や大きさの製品に対応できます。

表面の清浄度、密着性、親水性を向上

紫外線洗浄・改質技術は、紫外線を照射することでガラス・樹脂・金属などの各種素材に密着性、親水性の向上、ぬれ性改善などの様々な効果を生み出す技術です。


ぬれ性(接触角)評価

接触角は「ぬれ」を表す素材表面の清浄度や接着性、親水性などの重要な指標です。

  • 紫外線処理前後の接触角の違い

各種素材の接触角の変化

  • 各種素材の接触角の変化グラフ

紫外線による洗浄のメカニズム

  • 洗浄のメカニズム1:有機物の分子の切断と酸素分子O2の分解
  • 洗浄のメカニズム2:オゾンO3を生成
  • 洗浄のメカニズム3:O2とOに分解
  • 洗浄のメカニズム4:活性酸素Oと結合した有機物が除去

紫外線による改質のメカニズム

  • 改質のメカニズム1:活性酸素Oを生成
  • 改質のメカニズム2:OHやCHO、COOHなどの官能基が表面に形成
  • 改質のメカニズム3:官能基は接着剤や塗料、コーティング材との中間基として結合
  • 改質のメカニズム4:接着剤、塗料やコーティング材などは強固な接着・密着強度を可能に

アプリケーション

対象物製品、部品素材用途・効果
フラットパネル
液晶ディスプレイ
プラズマディスプレイ
有機ELほか
ガラス
カラーフィルター
ITOフィルム
キャップガラス
ガラス表面の有機系皮膜の除去
ガラスとITOの密着性向上
ITOと絶縁膜との密着強度向上
各種塗布膜の親水化
リードフレーム
ICチップ
レーザーほか
リードフレーム
シリコンウェハ
ガラスウェハ
レーザー素子
パッケージの前処理
ウェハ表面の有機系皮膜の除去
金鍍金表面の有機系皮膜の除去、親水化
レジストのUVアッシング
ピックアップレンズ、センサー
半導体製造用レンズ、単結晶
水晶振動子等
ガラスレンズ
樹脂レンズ
水晶振動子
セラミック
レンズ表面の有機系皮膜の除去
樹脂レンズ表面の親水化
金属系蒸着膜との密着性向上
コーティング、貼合せ各前処理
プリント基板、銅基板、
セラミック基板ほか
ガラスエポキシ
酸化アルミニウム
液晶ポリマー
メッキ加工の前処理
レジスト膜表面の有機物除去
はんだとの密着性向上
圧電ブザー
セラミックLSIほか
セラミックセラミック部品蒸着前処理
セラミック部品密着性向上
携帯電話外装
コネクター、スイッチ
自動車内装品ほか
エポキシ
ウレタン
シリコン
プラスチック
塗装と樹脂基材との密着性向上
蒸着膜と樹脂基材との密着性向上
接着剤と樹脂基材との接着性向上
布と樹脂基材との接着性向上

仕様

  • ワークサイズ 50×50mm対応

    紫外線洗浄改質装置SKB401Y-01
型式SKB401Y-01
ランプワット40W
外形寸法W200×D298×H265mm
照射距離10~50mm(10mmピッチ)
有効照射エリア50×50mm
試料台サイズ80×80mm
重量約5㎏
周波数50/60Hz共用
入力電圧AC100V
安全装置扉開時にランプ自動消灯
付属品なし
  • ワークサイズ 100×100mm対応

    紫外線洗浄改質装置SKB1101N-01
型式SKB1101N-01
ランプワット110W
外形寸法照射器W300×D330×H355mm
電源W185×D525×H150mm
照射距離10~100mm(10mmピッチ)
有効照射エリア100×100mm
試料台サイズ230×190mm
重量照射器約8㎏
電源約10㎏
周波数50/60Hz共用
入力電圧AC100V
付属品オゾン排気用ブロワ、ホース
  • ワークサイズ 200×200mm対応

    紫外線洗浄改質装置SKB2001N-01
型式SKB2001N-01
ランプワット200W
外形寸法照射器W370×D380×H355mm
電源W200×D700×H188mm
照射距離10~100mm(10mmピッチ)
有効照射エリア200×200mm
試料台サイズ280×240mm
重量照射器約10㎏
電源約12㎏
周波数50/60Hz共用
入力電圧AC100V
付属品オゾン排気用ブロワ、ホース
  • ワークサイズ 300×300mm対応

    紫外線洗浄改質装置SKB2003N-01
型式SKB2003N-01
ランプワット200W
外形寸法照射器W550×D550×H450mm
電源W360×D530×H370mm
照射距離5~150mm(ジャッキにて調整)
有効照射エリア300×300mm
試料台サイズ350×320mm
重量照射器約20㎏
電源約20㎏
周波数50/60Hz共用
入力電圧AC200V
付属品オゾン排気用ブロワ、ホース

照度プロファイル

※照射距離 ランプ表面からワーク表面までの距離
※波長254nm、当社測定条件にて(保証値ではありません)

  • SKB40Y-01

  • SKB1101N-01

  • SK2001N-01

  • SK2003N-01

紫外線関連装置


下記の装置も取り扱っております。

  • UV硬化装置

    コンパクトとコストを追求したハンディタイプの紫外線硬化装置です。

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  • 紫外線殺菌装置

    処理流量や用途に応じて幅広いバリエーションの紫外線殺菌装置をラインアップしております。

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製品情報

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