2026/08/20
第１７回 に【幕張】高機能素材WEEK 出展いたします。
会期：2026年9月30日(水)～10月２日(金)
会場：幕張メッセ （ブース位置： ）
展示内容は下記の通りです。
【Cobetter社製 ろ過フィルタ―】
WET洗浄向け（Chemrapid™）
表面改質PTFEメンブレンとPFAハウジングを採用。2nm～0.5µmの幅広いろ過精度に対応し、半導体WET洗浄工程の高純度薬液・高温プロセスに適用します。
Lithography向け（Photogile™ SIN/CIN）
PE・ナイロン・PTFEメンブレンをラインアップ。幅広いろ過精度に対応し、半導体リソグラフィ工程のフォトレジスト・コーティング剤・溶剤ろ過に適用します。
【超薄型ベアリング】
当社の提供する超薄型ボールベアリングは、断面寸法を極限まで薄く保ちながら、高い寸法・回転精度を維持する特殊設計を採用しています。
標準品と比較して、内径が大きくなるほど「小型・軽量化」のメリットは幾何級数的に増大します。
【COT処理】
滑り性や耐久性は欲しいけれど、コーティングは剥離による異物混入のリスクが高く導入出来ない…という問題をCOT処理が解決いたします。
物理的な処理プロセスのみで、コーティング膜を成膜することなく、滑り性、金属の強化、非粘着性を実現します。
樹脂やガラス等、他のコーティングでは処理が難しい材質のモノへ処理が可能です。
皆様のご来場、心よりお待ちしております。
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